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    首頁-產品系統-管式爐-1200℃迷你型真空氣氛管式爐

    
    
    

    




    
	
    
    	
        
        
        
                
    
    
    
    
    	
    
            	
    
                	
					
                	
    1200℃迷你型真空氣氛管式爐
    

    
    
    
    1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
    
    
    
    	
    更新日期：2024-05-08
    型號：
    廠商性質：生產廠家
    
    
    
    

    

    
                    	
					
                
    
            
    
        
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